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半导体行业超纯水水质标准

   日期:2025-08-21 14:57:05     来源:半导体芯片清洗    作者:合明科技    浏览:2    
核心提示:半导体工业的超纯水的水质指标要求,甚至严格于我国国标电子水的z高标准要求,如微粒子,TOC,电阻率,溶解氧等。因此,相比于其他行业的超纯水,需要更加严格的深度处理技术,如深度处理颗粒物,有机物,深度脱盐,深度脱气技术等等。

半导体行业超纯水水质标准

半导体工业需要大量的超纯水,随着半导体工业的发展,对超纯水水质的要求日趋严格。当前半导体工业的超纯水的水质指标要求,甚至严格于我国国标电子水的z高标准要求,如微粒子,TOC,电阻率,溶解氧等。因此,相比于其他行业的超纯水,需要更加严格的深度处理技术,如深度处理颗粒物,有机物,深度脱盐,深度脱气技术等等。其部分参考标准如下:

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ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

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中国国家电子级超纯水规格GB/T11446-1997

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